輝光放電分析(xi)(xi)（GDA）于(yu)1968年*出現，初用于(yu)各種塊狀金屬和合金的(de)光譜化學分析(xi)(xi)。 這種分析(xi)(xi)方法不斷(duan)地(di)發展，尤其擅長于(yu)表(biao)面和涂層分析(xi)(xi)。與傳統的(de)激發技術相比(bi)，輝光放電技術的(de)突出優(you)點是能夠表(biao)層分析(xi)(xi)樣品(pin)的(de)表(biao)層。

主要特點

1.涂（鍍）層材(cai)料(liao)和(he)(he)均相材(cai)料(liao)化學成分的(de)分析(xi)，痕(hen)量(liang)(liang)和(he)(he)微量(liang)(liang)合金元(yuan)素的(de)檢測(ce)和(he)(he)測(ce)量(liang)(liang)

2.濃度分(fen)布測(ce)定(ding)和表層測(ce)量(liang)數據的定(ding)性/定(ding)量(liang)評(ping)價

3.測定(ding)被分析表(biao)面層內(nei)部的相相比

4.軟件(jian)基(ji)于Windows 2000環境，日常分析(xi)功能采用(yong)易用(yong)的軟件(jian)界面，使用(yong)戶能很快地熟悉儀器的使用(yong)。

5. 分析軟件具有強大功(gong)能并且靈(ling)活易(yi)用，具有許(xu)多適于用戶的軟件功(gong)能選項(xiang)，如顯示輸出、數據(ju)傳輸和數據(ju)格(ge)式。

6. 化學成(cheng)分(fen)可以與(yu)其他(ta)特性，如被(bei)分(fen)析區域中的(de)密度(du)和質量分(fen)布同時測定

應用領域

塊狀樣品分析

GDA750可用于塊狀(zhuang)樣品(pin)的分(fen)(fen)析(xi)（如金屬(shu)合(he)金的化(hua)學成分(fen)(fen)），為復雜基體材料的分(fen)(fen)析(xi)提供具有良好線性的工作曲線。

工藝過程佳化

通過比較(jiao)涂（鍍）層(ceng)工藝(yi)(yi)過程(cheng)（CVD，PVD）前(qian)后的表面(mian)特性，確(que)保生產(chan)工藝(yi)(yi)過程(cheng)佳化和大程(cheng)度地避(bi)免廢品浪費。

非導體材料和涂層

采用可(ke)選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可(ke)以(yi)分析非(fei)導體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉(you)質和油漆涂層。

GDA750可(ke)以(yi)配備60個以(yi)上的分(fen)(fen)析通道，并且能(neng)充分(fen)(fen)地滿足高分(fen)(fen)辨率和高精度的分(fen)(fen)析要求。涂（鍍）層的深度可(ke)測(ce)量(liang)至200um，表面分(fen)(fen)析和獲(huo)得(de)的分(fen)(fen)辨率達(da)1個原子(zi)層。

適用于質量控制和材料研究

在金屬分(fen)析(xi)(xi)領域中(zhong)，輝光放(fang)電(dian)分(fen)析(xi)(xi)是濃(nong)度分(fen)析(xi)(xi)和表(biao)面分(fen)析(xi)(xi)理想(xiang)的(de)手段(duan)。表(biao)面處(chu)理工藝過程中(zhong)，如表(biao)面滲碳硬(ying)化或滲碳熱處(chu)理等，都可以通過分(fen)析(xi)(xi)被處(chu)理材(cai)料的(de)表(biao)面和近表(biao)層區域實(shi)現(xian)質量控制。

采用(yong)濃度(du)分(fen)(fen)布(bu)分(fen)(fen)析(xi)功能(neng)可以精確地測(ce)量(liang)涂（鍍）層厚度(du)及化(hua)學成分(fen)(fen)。對于(yu)傳統(tong)的分(fen)(fen)析(xi)方法(fa)不(bu)能(neng)解(jie)決的材料分(fen)(fen)析(xi)問題(ti)，輝光放電(dian)光譜技術可以作(zuo)為優(you)先選用(yong)的方法(fa)。