輝光放電光譜儀（GDA）于(yu)1968年(nian)*出現(xian)，用(yong)于(yu)各種塊(kuai)狀(zhuang)金(jin)屬和(he)合(he)金(jin)的(de)(de)光譜化學分(fen)析(xi)。這種分(fen)析(xi)方法不斷地(di)發(fa)展，尤(you)其擅長于(yu)表面和(he)涂層分(fen)析(xi)。與(yu)傳統(tong)的(de)(de)激發(fa)技術相比，輝光放電技術的(de)(de)突(tu)出優(you)點是能(neng)夠表層分(fen)析(xi)樣品的(de)(de)表層。

適用于質量控制和材料研究

在金屬分(fen)析領域中，輝光放電(dian)分(fen)析是(shi)濃度分(fen)析和表面分(fen)析理(li)想的手(shou)段。

表(biao)面處(chu)理工藝過程，如(ru)表(biao)面滲碳硬(ying)化(hua)或滲碳熱處(chu)理等，都(dou)可以通(tong)過分(fen)析被處(chu)理材料的表(biao)面和近表(biao)層(ceng)區域實現質量(liang)控制。采用濃度分(fen)布分(fen)析功能可以精(jing)確(que)地測(ce)量(liang)涂（鍍）層(ceng)厚(hou)度及化(hua)學(xue)成分(fen)。

對于傳統(tong)的分(fen)析方法不能解決的材(cai)料(liao)分(fen)析問(wen)題(ti)，輝光放電光譜技術可以作(zuo)為(wei)優(you)先選用(yong)的方法。

采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以(yi)分(fen)析非導體(ti)材料(liao)和(he)(he)涂層(ceng)，如玻璃，陶瓷，釉(you)質和(he)(he)油漆涂層(ceng)。

GDA750可以配備60個以上的分(fen)(fen)析(xi)通道(dao)，并且(qie)能充分(fen)(fen)地滿足高分(fen)(fen)辨率和(he)高精(jing)度(du)(du)的分(fen)(fen)析(xi)要求。涂(tu)（鍍）層(ceng)的深度(du)(du)可測(ce)量至(zhi)200um表面(mian)分(fen)(fen)析(xi)和(he)獲得的分(fen)(fen)辨率達1個原子層(ceng)。分(fen)(fen)析(xi)軟件具有強大(da)功能并且(qie)靈活(huo)易(yi)用；化學成分(fen)(fen)可以與其他特(te)性(xing)，如(ru)被(bei)分(fen)(fen)析(xi)區域中(zhong)的密度(du)(du)和(he)質量分(fen)(fen)布同時測(ce)定。

通(tong)過(guo)(guo)比較涂（鍍(du)）層(ceng)工(gong)藝過(guo)(guo)程(cheng)（CVD，PVD）前(qian)后的表面特(te)性，確保生產工(gong)藝過(guo)(guo)程(cheng)佳化和大程(cheng)度地避免(mian)廢(fei)品(pin)浪費。

GDA750也可(ke)用于(yu)塊狀樣品的分析(xi)（如金屬(shu)合金的化學成(cheng)分），為復雜(za)基(ji)體材(cai)料的分析(xi)提供(gong)具有良好線(xian)性的工作曲(qu)線(xian)。

主要特點：

1.涂（鍍）層材料和(he)均相材料化學成分(fen)的(de)分(fen)析，痕量(liang)和(he)微(wei)量(liang)合金元素的(de)檢測(ce)和(he)測(ce)量(liang)

2.濃度分布測定(ding)和表層測量(liang)數據的定(ding)性/定(ding)量(liang)評價

3.測定被(bei)分(fen)析表面層內部的相/相比

4.軟件基于(yu)Windows 2000環境，日(ri)常(chang)分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用

5.具有許多適于用戶的軟件(jian)功能選項(xiang)，如顯(xian)示(shi)輸(shu)出、數據(ju)傳輸(shu)和數據(ju)格式